鍍膜玻璃
鍍膜玻璃是在玻璃表面涂鍍一層或多層金屬、合金或金屬化合物薄膜,以改變玻璃的光學(xué)性能,滿足某種特定要求。
鍍膜玻璃按產(chǎn)品的不同特性,可分為以下幾類:熱反射玻璃、低輻射玻璃(Low-E)、
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鍍膜玻璃是在玻璃表面涂鍍一層或多層金屬、合金或金屬化合物薄膜,以改變玻璃的光學(xué)性能,滿足某種特定要求。
鍍膜玻璃按產(chǎn)品的不同特性,可分為以下幾類:熱反射玻璃、低輻射玻璃(Low-E)、
鍍膜玻璃是在玻璃表面涂鍍一層或多層金屬、合金或金屬化合物薄膜,以改變玻璃的光學(xué)性能,滿足某種特定要求。
鍍膜玻璃按產(chǎn)品的不同特性,可分為以下幾類:熱反射玻璃、低輻射玻璃(Low-E)、導(dǎo)電膜玻璃等.熱反射玻璃一般是在玻璃表面鍍一層或多層諸如鉻、鈦或不銹鋼等金屬或其化合物組成的薄膜,使產(chǎn)品呈豐富的色彩,對于可見光有適當(dāng)?shù)耐干渎?對紅外線有較高的反射率,對紫外線有較高吸收率,因此,也稱為陽光控制玻璃,主要用于建筑和玻璃幕墻;低輻射玻璃是在玻璃表面鍍由多層銀、銅或錫等金屬或其化合物組成的薄膜系,產(chǎn)品對可見光有較高的透射率,對紅外線有很高的反射率,具有良好的隔熱性能,主要用于建筑和汽車、船舶等交通工具,由于膜層強度較差,一般都制成中空玻璃使用;導(dǎo)電膜玻璃是在玻璃表面涂敷氧化銦錫等導(dǎo)電薄膜,可用于玻璃的加熱、除霜、除霧以及用作液晶顯示屏等;
鍍膜玻璃的定義
鍍膜玻璃是在玻璃表面涂鍍一層或多層金屬,合金或金屬化合物薄膜,或?qū)⒔饘匐x子遷移到玻璃表面層,以改變玻璃的光學(xué)性能,滿足某種特定要求的一種玻璃深加工產(chǎn)品。
鍍膜玻璃的主要生產(chǎn)方法
1,化學(xué)氣相沉積法
化學(xué)氣相沉積(chemical vapour deposition, CVD) 是把含有構(gòu)成薄膜元素的一種或幾種化合物或單質(zhì)氣體,供給基板,利用氣相反應(yīng),在基板表面上反應(yīng)沉積出所需固體薄膜的工藝技術(shù),該技術(shù)已成為鍍膜玻璃生產(chǎn)的主要制備技術(shù)。
在線CVD法鍍膜技術(shù),是在浮法玻璃生產(chǎn)過程中,連續(xù)沉積化合物薄膜的CVD工藝技術(shù),是目前世界上比較先進的鍍膜玻璃生產(chǎn)技術(shù)。它是以潔凈、高速牽引(8-15m/min)、高溫(600℃)的浮法玻璃為沉積襯底。換言之,薄膜沉積前,玻璃襯底即將離開錫槽但尚未進人退火窯,且未被處理凈化。國外最早采用在線CVD法連續(xù)沉積Sn02薄膜,而我國最早是用該法生產(chǎn)硅質(zhì)鍍膜玻璃。目前,我國已基本掌握了在線CVD法鍍膜技術(shù),能夠穩(wěn)定地生產(chǎn)硅質(zhì)鍍膜玻璃、在線Low-E玻璃和在線自潔凈玻璃。
2,固體粉末噴涂法
噴涂鍍膜技術(shù)是將一種或多種反應(yīng)氣體或有機金屬鹽化合物溶液的霧化顆?;蛴袡C金屬鹽粉末噴涂于熱玻璃表面而熱分解成膜的工藝方法。固體粉末噴涂法最初是由美國Ford汽車公司于20世紀(jì)80年代初應(yīng)用于浮法生產(chǎn)線上的一種鍍膜方法,固體粉末噴涂法的工藝流。固體粉末噴涂法的鍍膜區(qū)一般設(shè)置在浮法玻璃生產(chǎn)線的過渡輾臺之后、退火窯之前的位置,也就是我們通常所說的退火窯A0區(qū)。其基本原理是將一種或多種組分的有機金屬鹽粉末,借助壓縮氣載體通過特制噴槍噴涂于熱玻璃表面,利用有機金屬鹽的高溫?zé)岱纸猓诓AП砻嫘纬梢粚咏饘傺趸锉∧?,反?yīng)廢氣、未反應(yīng)的固體粉末以及參與反應(yīng)但并未在玻璃表面成膜的物質(zhì)經(jīng)收塵設(shè)備及時排出窯外,以保持玻璃表面和窯內(nèi)的清潔。鍍膜機組設(shè)備主要由伺服往復(fù)式自動噴涂機、送料機、振動喂料機、收塵系統(tǒng)構(gòu)成。其中,伺服往復(fù)式自動噴涂機上安裝有噴槍,噴槍是將固體粉料噴涂于熱玻璃表面而成膜的重要裝置,其噴槍結(jié)構(gòu)、重量、噴涂角度等因素對噴涂效果能夠產(chǎn)生很大影響。
3,真空蒸鍍法
真空蒸發(fā)鍍膜法(簡稱真空蒸鍍法,Vacuum Evaporation) 是指在一定的真空條件下,利用高溫加熱蒸鍍材料(金屬合金或金屬氧化物)到一定溫度條件下,使其原子或分子從表面汽化逸出,形成蒸汽流,并飛行濺射到玻璃基板表面凝結(jié)形成固態(tài)薄膜的方法,真空蒸發(fā)鍍膜原理。
由于真空蒸鍛法的主要物理過程是通過加熱蒸發(fā)材料而產(chǎn)生,所以又稱熱蒸發(fā)法。蒸發(fā)源作為蒸發(fā)裝置的關(guān)鍵部件,大多數(shù)蒸發(fā)材料都要求在1000-2000℃的高溫下蒸發(fā)。真空蒸鍍法按蒸發(fā)源的不同可分為電阻法、電子束蒸發(fā)法、高頻感應(yīng)法和激光蒸發(fā)法等。目前,采用真空蒸鍍法生產(chǎn)鍍膜玻璃的均是采用間歇式生產(chǎn), 其工藝流程
4,真空磁控濺射法
磁控濺射法的生產(chǎn)方式包括間歇式和連續(xù)式生產(chǎn)法,其中連續(xù)式生產(chǎn)法又可分為水平和垂直連續(xù)式生產(chǎn)兩種。其中,水平連續(xù)式生產(chǎn)法是玻璃基片在水平輸送過程中完成全部加工工藝的生產(chǎn)方式,以具有3個濺射室的雙端機。
磁控濺射鍍膜的優(yōu)點主要有:①心對靶材的面積和形狀不作要求,且可實現(xiàn)大面積鍍膜,且膜層均勻性好、膜厚可控、濺射工藝重復(fù)性好;②可用的膜材廣泛,只要能做成靶材的任何材料都可實現(xiàn)濺射,因此可制備絕大多數(shù)材料的薄膜,包括合金和化合物等;③薄膜與基片的附著力強,膜層純度高、致密;④成膜速度快,生產(chǎn)效率高。
總結(jié)
鍍膜玻璃的制備技術(shù)自20世紀(jì)70年代發(fā)展到現(xiàn)在,已經(jīng)形成了一套比較成熟和完備的技術(shù)體系。
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